Struktur Mesin Etsa Plasma

Piranti ICP utamanyane kawangun antuk petang kepahan: pra-ruang vakum, ruang etsa, sistem pasokan gas lan sistem vakum.

(1) Pra-ruang vakum

Fungsi pra-ruang vakum inggih punika mastikayang ruang etsa tetep ring tingkat vakum sane sampun katetapang, nenten keni ius lingkungan eksternal (sekadi buk, uap toya), lan ngisolasi gas-gas sane mabaya saking ruangan sane bersih. Punika kawangun antuk penutup, manipulator, mekanisme transmisi, pintu isolasi, miwah sane lianan.

(2) Ruang etsa

Ruang etsa inggih punika struktur inti saking piranti etsa ICP. Punika madue iusan langsung ring tingkat etsa, vertikalitas etsa, lan kasarnyane. Komponen utama ring ruang etsa inggih punika: elektroda atas, unit frekuensi radio ICP, unit frekuensi radio RF, sistem elektroda bawah, sistem kontrol suhu, miwah sane lianan.

(3) Sistem pasokan gas .

Sistem pasokan gas inggih punika ngirimang makudang-kudang gas etsa ring ruang etsa, lan akurat ngontrol laju aliran gas lan aliran sane nglintangin pengontrol tekanan (PC) lan pengontrol aliran massa (MFC). Sistem pasokan gas puniki kawangun antuk botol sumber gas, pipa pengiriman gas, sistem kontrol, unit pencampuran, miwah sane lianan.

(4) Sistem Vakum
Wenten kalih sistem vakum, asiki antuk ruang pra-vakum lan sane lianan antuk ruang etsa. Ruang vakum pra-kaevakuasi olih pompa mekanis. Wantah ritatkala tingkat vakum ring pra-ruang vakum ngantos nilai sane sampun katetapang prasida pintu isolasi kabukak anggen ngingsirang wafer. Vakum ring ruang etsa puniki kasediaang olih pompa mekanis lan pompa molekuler. Gas sane kapolihang olih reaksi ring ruang etsa taler kaevakuasi olih sistem vakum.