Piranti Plasma Vertikal Substrat IC
Peralatan Plasma Vertikal Substrat IC puniki khusus kakaryanin anggen meresihin substrat IC ring proses kemasan IC tradisional, efektif ngicalang partikel, minyak, lan kontaminan permukaan anggen ngicenin permukaan sane berkualitas tinggi-anggen langkah-langkah kemasan selanturnyane. Sistem puniki ngadukung operasi otomatis jangkep antuk layar sentuh lan kontrol PLC, ngawinang manajemen komprehensif parameter proses, monitoring waktu nyata-, manajemen resep, lan notifikasi alarm.
Deskripsi Fungsi
Peralatan Plasma Vertikal Substrat IC puniki khusus kakaryanin antukngresikin substrat IC ring proses kemasan IC tradisional, efektif ngicalang partikel, minyak, lan kontaminan permukaan mangda prasida ngicenin permukaan sane berkualitas tinggi-anggen langkah-langkah pengemasan selanturnyane. Sistem puniki nyokongoperasi otomatis jangkepantuk layar sentuh lan kontrol PLC, ngawinang manajemen komprehensif parameter proses, monitoring waktu nyata-, manajemen resep, lan notifikasi alarm. Puniki stabil, andel, lan dangan kaoperasiang, nagingin persyaratan presisi- sane tegeh lan konsistensi sane tegeh - saking proses kemasan IC.
Komponen Utama (Konfigurasi)
Katup Solenoid Vakum
Kualitas-tinggiKatup solenoid merek SVFmastikayang respons sane gelis lan kontrol sane stabil ring aliran gas ruang vakum.
Saklar Tekanan miwah Regulator
Saklar lan pengatur tekanan presisi tinggi-merek SMCngicenin kontrol sane akurat ring vakum lan tekanan gas, nyaga kinerja proses sane konsisten.
Desain Elektroda
Elektroda punika kakaryanin saking a .piring aluminium padat tunggal sane madue tengah sane bolong, miwah saluran pendinginan sane kaanggen .bolong sane dalem-kabor kagabungan sareng penghalang aliran sane kagenahang strategismangda prasida nuntun toya pendinginan ring margi sane sampun katentuang. Puniki mastikayang suhu elektroda sane seragam, nincapang konsistensi perawatan plasma lan keulangannyane.
Aplikasi Utama
Piranti punika utamanyane kaanggen ring .Pembersihan substrat IC, tepatnyane ngontrol lingkungan plasma anggen ngicalang partikel halus, resin residu, lan kontaminan organik. Punika nincapang hasil kemasan IC lan konsistensi produk. Sistem puniki kompatibel sareng substrat sane mabinayan ukuran lan bahan, nagingin persyaratan kebersihan lan presisi proses sane ketat saking industri kemasan elektronik.
Spesifikasi Teknis
Tingkat Vakum
Miara20-50 Parikala operasi normal, mastikayang lingkungan perawatan plasma sane stabil.
Metode Aliran Gas
Ngawigunayangdesain knalpot ring baduur-, ring sor-patenantuk baffle aliran mangda prasida mastikayang aliran udara sane seragam ring jeroning ruangan lan hasil perawatan sane konsisten.
Sistem pendinginan
Saluran pendinginan elektroda kakaryanin antuk bolong sane dalem-bor lan baffle aliran anggen nuntun toya ring salantang jalur sane sampun katetapang, mastikayang suhu elektroda sane seragam lan nincapang stabilitas lan pengulangan perawatan plasma.
Nilai Aplikasi
Piranti plasma vertikal substrat IC punika ngicenin ...solusi pembersih permukaan sane pinih efisien, stabil, lan cerdas. Antuk ngaptiang aliran udara vakum lan desain pendinginan elektroda, punika prasida nincapang hasil kemasan IC lan konsistensi produk sinambi ngirangin cacat proses lan limbah produksi. Sistem puniki dangan kaanggen lan kapiara, energi-efisien, lan ramah lingkungan, dadosnyane aset kunci majeng ring produsen kemasan IC sane mautsaha nincapang produktivitas, mastikayang kualitas sane konsisten, lan miara stabilitas proses.
Tag sane panes: ic substrat peralatan plasma vertikal, Cina ic substrat peralatan plasma vertikal produsen, pabrik
Ngirim penyelidikan
